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品名：廠家批發定制W1磨光濺射鎢靶材 純度99.95% 價格優惠
材質：W
純度：≥99.5％
晶粒度：＜100μm
生產工藝：熱軋開坯--中間退火--堿洗--剪切--成品退火而成
產品用途：高純鎢靶和高純鎢鈦合金靶、鎢硅復合靶材通常被施以磁控濺射的方式制作各種復雜和高性能的薄膜材料。由于高純鎢或超純鎢（5 N或6 N）具有對電子遷移的高電阻、高溫穩定性以及能形成穩定的硅化物，在電子工業中常以薄膜形式用作柵極、連接、過渡和障礙金屬。超高純鎢及其硅化物還用于超大規模集成電路作為電阻層、擴散阻擋層等以及在金屬氧化物半導體型晶體管中作為門材料及連接材料等。鎢鈦合金濺射靶材常用于制作薄膜系太陽能電池的過渡金屬層。
品名：廠家批發定制W1磨光濺射鎢靶材 純度99.95% 價格優惠
材質：W
純度：≥99.5％
晶粒度：＜100μm
生產工藝：熱軋開坯--中間退火--堿洗--剪切--成品退火而成
產品用途：高純鎢靶和高純鎢鈦合金靶、鎢硅復合靶材通常被施以磁控濺射的方式制作各種復雜和高性能的薄膜材料。由于高純鎢或超純鎢（5 N或6 N）具有對電子遷移的高電阻、高溫穩定性以及能形成穩定的硅化物，在電子工業中常以薄膜形式用作柵極、連接、過渡和障礙金屬。超高純鎢及其硅化物還用于超大規模集成電路作為電阻層、擴散阻擋層等以及在金屬氧化物半導體型晶體管中作為門材料及連接材料等。鎢鈦合金濺射靶材常用于制作薄膜系太陽能電池的過渡金屬層。
