品 名:高純濺射銅靶材 供應精品銅靶材
材 質:Cu
純 度:99.99%
晶粒度:<100um
產品規格:根據用戶需要進行定制,來樣加工,來圖加工。
應用領域:真空鍍膜,實驗或研究級別用銅靶材,電子,光電,軍用,裝飾鍍,功能薄膜等。
產品優點:質量可靠,價格優惠真空熔煉,提純制備,純度高,雜質少相對致密度高,晶粒均與等軸,一致性高。
若您對以上產品或價格有任何疑問,歡迎點擊詢價服務,客服會在第一時間回復您!
品 名:高純濺射銅靶材 供應精品銅靶材
材 質:Cu
純 度:99.99%
晶粒度:<100um
產品規格:根據用戶需要進行定制,來樣加工,來圖加工。
應用領域:真空鍍膜,實驗或研究級別用銅靶材,電子,光電,軍用,裝飾鍍,功能薄膜等。
產品優點:質量可靠,價格優惠真空熔煉,提純制備,純度高,雜質少相對致密度高,晶粒均與等軸,一致性高。
若您對以上產品或價格有任何疑問,歡迎點擊詢價服務,客服會在第一時間回復您!