磁控濺射硅靶 高純硅靶材

產品名稱：磁控濺射硅靶 高純硅靶材

純度：99.99%

密度：2.4g/cm3

熔點：1410℃

晶粒度：均勻

形 狀：環狀、片狀、圓片

產品優勢：純度高，雜質少，相對致密度高，晶粒均勻，一致性高

應用領域：

1.硅主要用來制作高純半導體、耐高溫材料、光導纖維通信材料、有機硅化合物、合金等，被廣泛應用于航空航天、電子電氣、建筑、運輸、能源、化工、紡織、食品、輕工、醫療、農業等行業。

2.硅可用來制作金屬陶瓷復合材料，這種材料繼承了金屬和陶瓷的各自優點，同時還彌補了兩者不足，具有耐高溫、富韌性、可切割等優點。

3.高純的單晶硅是重要的半導體材料，可制成二極管、三極管、晶閘管和各種集成電路(包括人們計算機內的芯片和CPU)，還可以做成太陽能光伏電池。

4.硅與其他金屬可以制成合金，以此來提升其金屬性能。硅制成的合金主要包括：硅鋁合金、硅銅合金、硅鐵合金、硅錳合金等。

5.純二氧化硅可拉制出高透明度的玻璃纖維，該纖維是光導纖維通信的重要材料，這種通信方式代替了笨重的電纜，通信容量高，不受電、磁干擾，不怕竊聽，具有高保密性。