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品 名：廠家供應平面濺射鉬靶 真空鍍膜鉬靶材
產 地：陜西寶雞
材 質：Mo
純 度：99.95%
晶粒度：<100um
密 度：≥10.15g/cm3
應用領域：
經過變形量達到60%以上的軋制加工后，鉬片的密度基本上接近于鉬的理論密度，因此其具有高強度，內部組織均勻和優良的抗高溫蠕變性能，從而被廣泛應用于生產藍寶石晶體生長爐內的反射屏、蓋板，真空爐內的反射屏、發熱帶、連接件，等離子鍍膜用的濺射靶材，耐高溫舟皿等制品。
鉬靶材屬性：
濺射作為一種先進的薄膜材料制備技術，具有“高速”及“低速”兩大特點。它利用離子源產生的離子，在真空中加速聚集成高速離子流，轟擊固體表面，離子和固體表面的原子發生動能交換，使固體表面的原子離開靶材并沉積在基材表面，從而形成納米(或微米)薄膜。而被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料，稱為濺射靶材。
鉬濺射靶可在各類基材上形成薄膜，這種濺射膜廣泛用作電子部件和電子產品，如目前廣泛應用的TFT-LCD(Thin Film Transitor-Liqu id C rysta I Displays，薄膜半導體管-液晶顯示器)，等離子顯示屏、無極光發射二極管顯示器、場發射顯示器、薄膜太陽能電池、傳感器、半導體裝置以及具有可調諧功函數CMDS(互補金屬氧化物半導體)的場效應晶體管柵極等。
溫馨提示：若您對以上內容或產品存在任何疑問，歡迎點擊在線詢價服務，客服會在第一時間回復您!
品 名：廠家供應平面濺射鉬靶 真空鍍膜鉬靶材
產 地：陜西寶雞
材 質：Mo
純 度：99.95%
晶粒度：<100um
密 度：≥10.15g/cm3
應用領域：
經過變形量達到60%以上的軋制加工后，鉬片的密度基本上接近于鉬的理論密度，因此其具有高強度，內部組織均勻和優良的抗高溫蠕變性能，從而被廣泛應用于生產藍寶石晶體生長爐內的反射屏、蓋板，真空爐內的反射屏、發熱帶、連接件，等離子鍍膜用的濺射靶材，耐高溫舟皿等制品。
鉬靶材屬性：
濺射作為一種先進的薄膜材料制備技術，具有“高速”及“低速”兩大特點。它利用離子源產生的離子，在真空中加速聚集成高速離子流，轟擊固體表面，離子和固體表面的原子發生動能交換，使固體表面的原子離開靶材并沉積在基材表面，從而形成納米(或微米)薄膜。而被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料，稱為濺射靶材。
鉬濺射靶可在各類基材上形成薄膜，這種濺射膜廣泛用作電子部件和電子產品，如目前廣泛應用的TFT-LCD(Thin Film Transitor-Liqu id C rysta I Displays，薄膜半導體管-液晶顯示器)，等離子顯示屏、無極光發射二極管顯示器、場發射顯示器、薄膜太陽能電池、傳感器、半導體裝置以及具有可調諧功函數CMDS(互補金屬氧化物半導體)的場效應晶體管柵極等。
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