品 名:廠家供應平面濺射鉬靶 真空鍍膜鉬靶材
產 地:陜西寶雞
材 質:Mo
純 度:99.95%
晶粒度:<100um
密 度:≥10.15g/cm3
應用領域:
經過變形量達到60%以上的軋制加工后,鉬片的密度基本上接近于鉬的理論密度,因此其具有高強度,內部組織均勻和優良的抗高溫蠕變性能,從而被廣泛應用于生產藍寶石晶體生長爐內的反射屏、蓋板,真空爐內的反射屏、發熱帶、連接件,等離子鍍膜用的濺射靶材,耐高溫舟皿等制品。
鉬靶材屬性:
濺射作為一種先進的薄膜材料制備技術,具有“高速”及“低速”兩大特點。它利用離子源產生的離子,在真空中加速聚集成高速離子流,轟擊固體表面,離子和固體表面的原子發生動能交換,使固體表面的原子離開靶材并沉積在基材表面,從而形成納米(或微米)薄膜。而被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料,稱為濺射靶材。
鉬濺射靶可在各類基材上形成薄膜,這種濺射膜廣泛用作電子部件和電子產品,如目前廣泛應用的TFT-LCD(Thin Film Transitor-Liqu id C rysta I Displays,薄膜半導體管-液晶顯示器),等離子顯示屏、無極光發射二極管顯示器、場發射顯示器、薄膜太陽能電池、傳感器、半導體裝置以及具有可調諧功函數CMDS(互補金屬氧化物半導體)的場效應晶體管柵極等。
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材 質:Mo
純 度:99.95%
晶粒度:<100um
密 度:≥10.15g/cm3
應用領域:
經過變形量達到60%以上的軋制加工后,鉬片的密度基本上接近于鉬的理論密度,因此其具有高強度,內部組織均勻和優良的抗高溫蠕變性能,從而被廣泛應用于生產藍寶石晶體生長爐內的反射屏、蓋板,真空爐內的反射屏、發熱帶、連接件,等離子鍍膜用的濺射靶材,耐高溫舟皿等制品。
鉬靶材屬性:
濺射作為一種先進的薄膜材料制備技術,具有“高速”及“低速”兩大特點。它利用離子源產生的離子,在真空中加速聚集成高速離子流,轟擊固體表面,離子和固體表面的原子發生動能交換,使固體表面的原子離開靶材并沉積在基材表面,從而形成納米(或微米)薄膜。而被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料,稱為濺射靶材。
鉬濺射靶可在各類基材上形成薄膜,這種濺射膜廣泛用作電子部件和電子產品,如目前廣泛應用的TFT-LCD(Thin Film Transitor-Liqu id C rysta I Displays,薄膜半導體管-液晶顯示器),等離子顯示屏、無極光發射二極管顯示器、場發射顯示器、薄膜太陽能電池、傳感器、半導體裝置以及具有可調諧功函數CMDS(互補金屬氧化物半導體)的場效應晶體管柵極等。
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