品名:真空鍍膜用鈮靶材 鈮濺射靶材
材質:鈮
純度:99.95%-99.99%
晶粒度:<100μm
生產工藝:熱軋,冷軋,堿洗,剪切而成
產品應用:微電子領域、硅片制造、平面顯示器、存儲技術領域。
內容為空!