品 名:平面顯示工業、光數據儲存工業用鎳靶 鎳圓靶
材 質:Ni
純 度:99.99%
晶粒度:<100μm
生產工藝:真空磁懸浮熔煉 ,澆鑄成錠,熱機械處理和精密機械加工
應用領域:真空鍍膜,實驗或研究級別用鎳靶材,電子,光電,軍用,裝飾鍍,功能薄膜等
品 名:平面顯示工業、光數據儲存工業用鎳靶 鎳圓靶
材 質:Ni
純 度:99.99%
晶粒度:<100μm
生產工藝:真空磁懸浮熔煉 ,澆鑄成錠,熱機械處理和精密機械加工
應用領域:真空鍍膜,實驗或研究級別用鎳靶材,電子,光電,軍用,裝飾鍍,功能薄膜等
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