合金靶材預濺射建議采用純氬氣進行濺射，可以起到清潔靶材表面的作用。靶材進行預濺射時建議慢慢加大濺射功率，陶瓷類靶材的功率加大速率建議為1.5W小時/平方厘米。

眾所周知，真空鍍膜中常用的方法有真空蒸發和離子濺射，那么，蒸發鍍膜和濺射鍍膜有什么區別?不少新手朋友有這樣的疑問，下面我們就看看歐凱靶材專家為我們做出的相關講解。

靶材概念上市公司一共有多少家?靶材概念一共有11家上市公司，其中4家靶材概念上市公司在上證交易所交易，另外7家靶材概念上市公司在深交所交易。

在電子行業中，為了提高濺射效率和確保沉積薄膜的質量，對鉬濺射靶材特性有如下要求。

濺射鍍膜就是最近發展起來的一種新的表面處理技術。表面處理技術能使材料的物理,機械和化學性能得到提高，而濺射鍍膜比以往的真空鍍膜具有“高速、低溫”兩個顯著的特點。

靶材就是目標材料。用于高能激光武器中，不同功率密度、不同輸出波形、不同波長的激光與不同的靶材相互作用時，會產生不同的殺傷破壞效應。簡單說的話，靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標材料。

鉬是一種金屬元素，主要用于鋼鐵工業，其中的大部分是以工業氧化鉬壓塊后直接用于煉鋼或鑄鐵，少部分熔煉成鉬鐵 鉬箔片后再用于煉鋼。它可增強合金的強度、硬度、可焊性及韌性，還可增強其耐高溫強度及耐腐蝕性能。

NiCrSi高阻濺射靶材主要用于制備金屬膜電阻器和金屬氧化膜高阻電阻器，集成電路布線及傳感器等，應用于電子計算機、通訊儀器、電子交換機中，逐漸成為替代碳膜電阻的新一代通用電阻器。

我們都了解，只要應用不同的無機非金屬氧化物類就可以得到不同種類和特性的太陽能透明電極，但是太陽能電池的特殊性，并不是所有靶材都適合，下面是關于小編對于不同薄膜太陽能電池靶材優缺點的總結。

AZO是鋁摻雜的氧化鋅(ZnO)透明導電玻璃的簡稱，ZnO薄膜是一種重要的光電子信息材料，不僅具有與傳統的ITO薄膜相比擬的光電性質，而且原料豐富，價格低。