瀏覽數量：3459 作者:歐凱利 發布時間： 2018-04-10 來源：歐凱靶材
按照應用領域不同，電子濺射靶材可以分為半導體靶材、平面靶材、鍍膜玻璃靶材、太陽能光伏靶材等，不同應用領域對金屬材料的選擇和性能要求存在一定的差異，其中半導體集成電路用的濺射靶材技術要求高，質量要求最苛刻。
靶材的主要種類與用途一覽表
靶材種類 | 主要用途 | 主要品種 | 性能要求 |
半導體 | 制備集成電路核心材料 | W、鎢鈦（Wti）、Ti、Ta、Al合金、Cu等，純度在4N或5N以上 | 技術要求高、超高純度金屬、高精度尺寸、高集成度 |
平面顯示 | 濺射技術保證生產薄膜均勻性，提高生產率降低成本 | 鈮靶、硅靶、Cr靶、鉬靶、MoNb、Al靶、鋁合金靶、銅靶、銅合金 | 技術要求高、高純度材料、材料面積大、均勻性程度高 |
裝飾 | 用于產品表面鍍膜，起美化耐磨耐腐蝕的效果 | 鉻靶、鈦靶、鋯（Zr）、鎳、鎢、鈦鋁、CrSi、CrTi、CrAlZr、不銹鋼靶 | 技術要求一般，主要用于裝飾、節能等 |
工具 | 工具、模具表面強化，提高壽命與被制造零件質量 | TiAl靶、鉻鋁靶、Cr靶、Ti靶、TiN、TiC、Al203等 | 性能要求較高、使用壽命延長 |
太陽能光伏 | 濺射薄膜技術用于第四代薄膜太陽能電池的制作 | 氧化鋅鋁靶、氧化鋅靶、鋅鋁靶、鉬靶、硫化鎘（CdS）靶、銅銦鎵硒等 | 技術要求高、應用范圍大 |
電子器件 | 用于薄膜電阻、薄膜電容 | NiCr靶、鎳鉻硅靶、鉻硅靶、鉭（Ta）靶、鎳鉻鋁靶等 | 要求電子器件尺寸小、穩定性好、電阻溫度系數小 |
信息存儲 | 用于制作磁儲存器 | Cr基、鈷（Co）基、鈷鐵基、Ni基等合金 | 高儲存密度、高傳輸速度 |
歐凱利靶材主要生產平板顯示器用靶材、鍍膜玻璃工業(主要包括建筑玻璃、汽車玻璃、光學薄膜玻璃等)用靶材、薄膜太陽能工業用靶材、表面工程(裝飾&工具)用靶材、電阻靶材、汽車車燈鍍膜用靶材等。若您對靶材的相關還有疑問，歡迎在線咨詢，客服會及時回復您。
