PVD磁控濺射真空鍍膜注意事項

PVD的全稱是物理氣象沉積,即英文(Phisical Vapor Deposition)的簡寫形式。 目前PVD主要有蒸發鍍膜，磁控濺射鍍膜，多弧離子鍍膜，化學氣相沉積等形式。 PVD總的來說屬于綠色環保產業，和其他行業相比，對人體有害很小，但不是沒有。當然，也完全可以有效減少，甚至完全消除。

PVD磁控濺射真空鍍膜注意事項：

1.輻射：有些鍍膜要用到射頻電源，如功率大，需做好屏蔽處理。另外，歐洲標準在單室鍍膜機門框四周嵌裝金屬線屏蔽輻射。

2.金屬污染：鍍膜材料有些(如鉻、銦、鋁)是對人體有害的，特別要注意真空室清理過程中出現的粉塵污染;

3.噪音污染：如特別是一些大的鍍膜設備，機械真空泵噪音很大，可以把泵隔離在墻外;

4.光污染：離子鍍膜過程中，氣體電離發出強光，不宜透過觀察窗久看;

PVD磁控濺射鍍膜機的一般工作溫度為多少?

濺射靶材專家指出，要看具體鍍膜的類別和基材的情況而定，一般溫度在0~500之間都是可控的。