瀏覽數量:88 作者:本站編輯 發布時間: 2017-06-26 來源:本站
近年以來,隨著消費電子等終端應用市場的飛速發展,高純濺射靶材的市場規模日益擴大,呈現高速增長的勢頭。今天主要探討高純濺射靶材行業現狀及發展趨勢。
行業現狀:
跨國公司優勢明顯,行業內處于領導地位美,日的半導體工業相繼催生了一批高純濺射靶材生產廠商,居于全球市場的主導地位。
國內專業廠商興起,與國外差距逐步縮小。國內產業起步較晚,但經過數年攻關,相關企業已擁有部分產品的規?;a能力。
我國目前已經成為繼美,日之后世界上第三個能夠生產低氧超高純鈦的國家。
發展趨勢:
提高濺射靶材利用率
精確控制濺射靶材晶粒向
濺射靶材大尺寸,高純度化發展