高純濺射靶材行業現狀及發展趨勢

　　近年以來，隨著消費電子等終端應用市場的飛速發展，高純濺射靶材的市場規模日益擴大，呈現高速增長的勢頭。今天主要探討高純濺射靶材行業現狀及發展趨勢。

　　行業現狀：

　　跨國公司優勢明顯，行業內處于領導地位美，日的半導體工業相繼催生了一批高純濺射靶材生產廠商，居于全球市場的主導地位。

　　國內專業廠商興起，與國外差距逐步縮小。國內產業起步較晚，但經過數年攻關，相關企業已擁有部分產品的規?；a能力。

　　我國目前已經成為繼美，日之后世界上第三個能夠生產低氧超高純鈦的國家。

　　發展趨勢：

　　提高濺射靶材利用率

　　精確控制濺射靶材晶粒向

　　濺射靶材大尺寸，高純度化發展