高純硅鋁合金靶材供應商

　　高純硅鋁合金靶材主要應用于鍍膜玻璃、光學鍍膜等領域。合縱新材擁有國內獨一無二的真空熔煉技術，該技術改良了傳統的熔煉工藝，徹底解決了熔煉硅鋁合金靶材普遍存在的疏松、氣孔、鋁塊等鑄造缺陷。與燒結工藝制備的產品相比，合縱新材采用特殊的真空熔煉技術生產的硅鋁合金靶材具有純度高(99.99%)、氧含量低、密度高(>99%)等優點，在濺射過程中不會開裂，甚至在不綁定的情況下也不會開裂。具有性價比高的特點。

　　硅鋁合金旋轉靶材技術參數

　　常規成分：Si90Al10，可按客戶要求定制，Si-Al的成分偏差：±2%以內

　　純度：99.9%

　　Si90Al10：相對密度≥92%;

　　實測密度：≥ 2.2 g/cm3(以3191-9/13為例，硅鋁合金涂層重量≥29 kg)

　　濺射功率：50KW~60 KW

　　使用功率數：76000 KW?h

　　靶材直線度：≤ 2 mm / 長度為3191 mm的靶材整根最大跳動量(彎曲)小于2 mm;