瀏覽數量:66 作者:本站編輯 發布時間: 2017-06-23 來源:本站
高純硅鋁合金靶材主要應用于鍍膜玻璃、光學鍍膜等領域。合縱新材擁有國內獨一無二的真空熔煉技術,該技術改良了傳統的熔煉工藝,徹底解決了熔煉硅鋁合金靶材普遍存在的疏松、氣孔、鋁塊等鑄造缺陷。與燒結工藝制備的產品相比,合縱新材采用特殊的真空熔煉技術生產的硅鋁合金靶材具有純度高(99.99%)、氧含量低、密度高(>99%)等優點,在濺射過程中不會開裂,甚至在不綁定的情況下也不會開裂。具有性價比高的特點。
硅鋁合金旋轉靶材技術參數
常規成分:Si90Al10,可按客戶要求定制,Si-Al的成分偏差:±2%以內
純度:99.9%
Si90Al10:相對密度≥92%;
實測密度:≥ 2.2 g/cm3(以3191-9/13為例,硅鋁合金涂層重量≥29 kg)
濺射功率:50KW~60 KW
使用功率數:76000 KW?h
靶材直線度:≤ 2 mm / 長度為3191 mm的靶材整根最大跳動量(彎曲)小于2 mm;