高純鈦靶材的應用

眾所周知，純度是靶材的主要性能指標之一，在實際應用中，對靶材的純度要求也不盡相同。高純鈦靶材的應用相比一般的工業純鈦，高純鈦價格昂貴，應用范圍較窄。主要用來滿足一些特殊行業的使用。那么高純鈦靶材的主要應該有哪些呢？下面我們跟隨歐凱靶材專家了解一下。

高純鈦靶材的應用主要有：

1、生物材料

鈦是無磁性金屬，在很強的磁場中也不會被磁化，且與人體有良好的相容性，無毒副作用，可以用來制造人體植入器件。一般醫用鈦材并沒有達到高純鈦的級別，但是考慮到鈦中不純物的溶出問題，植入件用鈦的純度應盡可能的高。文獻還提到，高純鈦絲可用做生物捆扎材料。此外，內埋導管的鈦制注入式針頭也達到了高純鈦級別。

2、裝飾材料

高純鈦具有優異的耐大氣腐蝕性能，在大氣中長期使用也不變色，保證鈦原有的本色。因此高純度鈦還可以用做建筑裝飾材料[5]。此外，近年來部分高檔裝飾品以及部分佩戴物，如手鏈、手表及眼鏡架等用鈦制作利用了鈦耐腐蝕、不變色、能長久保持良好的光澤以及與人體皮膚接觸不致敏等特性。某些裝飾品用鈦的純度已經達到5N級別。

3、吸氣材料

鈦作為一種化學性質非?；顫姷慕饘?，在高溫下可與許多元素和化合物發生反應。高純鈦對活性氣體(如O2，N2，CO，CO2，650℃以上的水蒸氣)的吸附性很強，蒸發在泵壁上的Ti膜可形成一個高吸附能力的表面，這一性質使得Ti在超高真空抽氣系統中作為吸氣劑而得到廣泛的應用。如用在升華泵、濺射離子泵等，可使濺射離子泵的極限工作壓強低至10-9Pa。

4、電子信息材料

近年來，隨著半導體技術、信息技術等高科技領域的快速發展，高純鈦在濺射靶材(見圖1)、集成電路、DRAMs和平板顯示器等方面的用量越來越大，對鈦材的純度要求越來越高。在半導體超大規模集成電路行業，控制電極采用鈦硅化合物、鈦氮化合物、鎢鈦化合物等作為擴散阻擋層和配線材料。制造這些材料采用濺射法，而濺射法用的鈦靶材對純度要求很高，特別是對堿金屬元素和放射性元素要求含量極低。

近年來，其與之相配的濺射設備也開始使用與濺射鈦靶材同等純度的高純鈦。目前，對于4兆位的超大規模集成電路，要求鈦的純度達到4N5(99.995%)～5N(99.999%)級，而16兆位的第三代超大規模集成電路則要求鈦的純度達到6N(99.9999%)級。

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