瀏覽數量：85 作者:本站編輯 發布時間： 2017-08-04 來源：本站
高純濺射靶材是伴隨著半導體工業的發展而興起的，屬于典型的技術密集型產業，產品技術含量高，研發生產設備專用性強。美國、日本的半導體工業相繼催生了一批高純濺射靶材生產廠商，并于當前居于全球市場的主導地位，在一定程度上，全球半導體工業的區域集聚性造就了高純濺射靶材生產企業的高度聚集。
國內市場中，高純濺射靶材產業起步較晚，主要高純濺射靶材生產企業均由國有資本和少數民營資本所投資。目前，國內高純濺射靶材生產企業已經逐漸突破關鍵技術門檻，打破了濺射靶材核心技術由國外壟斷、產品供應完全需要進口的不利局面，不斷彌補國內同類產品的技術缺陷，進一步完善濺射靶材產業發展鏈條，并積極參與國際技術交流和市場競爭。
技術發展方向
①提高濺射靶材利用率
②精確控制濺射靶材晶粒晶向
③濺射靶材大尺寸、高純度化發展
