高純銅靶材的應用領域及發展趨勢

　　高純銅靶材主要應用領域

　　高純銅靶材主要應用于電子及信息產業，如集成電路、信息存儲、液晶顯示屏、激光存儲器、電子控制器件等;可應用于玻璃鍍膜領域;還可以應用于耐磨材料、高溫耐蝕、高檔裝飾用品等行業。

　　信息存儲產業：隨著信息及計算機技術的不斷發展，世界市場對記錄介質的需求量越來越大，與之相應的記錄介質用靶材市場也不斷擴大，其相關產品有硬盤、磁頭、光盤(CD-ROM，CD-R，DVD-R等)、磁光相變光盤(MO，CD-RW，DVD-RAM)。

　　集成電路產業：在半導體應用領域，靶材是世界靶材市場的主要組成之一，主要用于電極互連線膜、阻擋層薄膜、接觸薄膜、光盤掩膜、電容器電極膜、電阻薄膜等方面。

　　平面顯示器產業：平面顯示器包括液晶顯示器(LCD)、等離子體顯示器(PDP)等等。目前，在平面顯示器市場中以液晶顯示器(LCD)為主，其市場占有率超過85%，被認為是目前最有應用前景的平面顯示器件，廣泛應用于筆記本電腦顯示器、臺式電腦監視器和高清晰電視機。LCD的制造工藝較復雜，其中降低反射層、透明電極、發射極與陰極均由濺射方法形成，因此，在LCD產業中濺射靶材起著重要作用。

　　高純度銅靶材在以上領域都有廣泛應用，并且對所需濺射靶材的質量提出了越來越高的要求。

　　高純銅靶材加工的發展趨勢

　　目前，IC行業所需高端超高純金屬銅靶材幾乎全部為國外幾個大型跨國公司所壟斷。國內IC行業所需的超純銅靶材基本全部需要進口，不僅價格昂貴，而且進口手續繁雜。國內靶材生產企業基本屬于質量和技術門檻較低、采用傳統加工方法、依靠價格取勝的低檔次濺射靶材生產者，或獲利有限的代工型加工廠。

　　目前，國外主要半導體濺射靶材供貨商已投入到超高純度(6N)銅濺射靶材的開發，同時已經將試生產的銅濺射靶材送交濺鍍設備供貨商進行相關測試及驗證，部分公司產品已上線生產。